纳米氧化铈在抛光上的应用

纳米氧化铈在微电子器件和精密光学元器件表面精密加工中已经得到广泛应用。

纳米氧化铈抛光粉（VK-Ce02，50nm）因具有切削能力强，抛光效率高，抛光精度高，抛光质量好，操作环境清洁，污染小，使用寿命长等特点，在光学精密抛光和CMP等领域占应用广泛。

纳米氧化铈的抛光机制

CeO2颗粒的硬度不高，氧化铈的硬度低于金刚石、氧化铝，与三氧化二铁相当。氧化铈是抛光基于氧化硅材料及氮化硅材料的较多抛光粉。氧化铈的纯度越高,抛光能力越大,使用寿命也增加,特别是硬质玻璃和石英光学镜头等长时间循环抛光时,以使用高纯度的氧化铈抛光粉为宜。

纳米氧化铈抛光粉的应用：

1.  眼镜、玻璃镜片抛光；

2. 光学镜头、光学玻璃、透镜等；

3. 手机屏玻璃、手表面（表门）等；

4.  液晶显示器各类液晶屏；

5.  水钻、烫钻、灯饰球

6.  水晶工艺品；

7. 部分玉石的抛光